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二氧化硅納米薄膜厚度標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)

更新時(shí)間:2024-03-14

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本標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)主要用于薄膜厚度測量和表面化學(xué)分析(深度剖析)儀器設(shè)備的檢定/校準(zhǔn)、分析 方法的確認(rèn)與評(píng)價(jià)、技術(shù)仲裁測量以及測量質(zhì)量控制等。
品牌中國計(jì)量科學(xué)研究院供貨周期現(xiàn)貨
應(yīng)用領(lǐng)域綜合1片11.10nm

本標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)主要用于薄膜厚度測量和表面化學(xué)分析(深度剖析)儀器設(shè)備的檢定/校準(zhǔn)、分析方法的確認(rèn)與評(píng)價(jià)、技術(shù)仲裁測量以及測量質(zhì)量控制等。一、 樣品制備本標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)系通過原子層沉積技術(shù)在單晶硅基底上生長二氧化硅納米薄膜成批制備而成,切割形成正方形片狀樣品(10mm×10mm×0.7mm)。二、 溯源性及定值方法本標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)采用兩種的不同原理方法(掠入射 X 射線反射測量和橢偏測量)進(jìn)行定值,以兩種定值方法測量結(jié)果的總平均值作為標(biāo)準(zhǔn)值。通過使用滿足計(jì)量學(xué)特性要求的測量方法和計(jì)量器具,保證標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)量值的溯源性。

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